中微第二代等离子体刻蚀设备首次在大陆安装
新华08网上海3月20日电(记者高少华)中微半导体设备有限公司20日宣布，中微第二代等离子体刻蚀设备Primo AD-RIE™ 正式装配国内集成电路芯片代工企业中芯国际，用于32纳米至28纳米及更先进的芯片加工。这也是中微Primo AD-RIE™设备首次进入中国大陆客户生产线。
中微副总裁兼刻蚀产品事业群总经理朱新萍表示，中微第二代等离子体刻蚀设备的单位投资产出率比市场上其他同类设备提高了30%以上，并能使加工晶圆的成本降低20%至40%。
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